Anfang Februar 2005 fand im Dresdener Hilton die 21st European Mask and Lithography Conference (EMLC '05) statt. Im Fokus standen die Masken- und Lithographietechnologien für integrierte Schaltungskreise und Mikrokomponenten. Insbesondere fanden auch die Einschätzung und Trends zur nächsten Generation der Belichtungs- und Lithographietechnologie höchste Aufmerksamkeit der Teilnehmer. Die Konferent diente zugleich als Plattform für Erfahrungsaustausch und Diskussionen zwischen Wissenschaftlern, Technologen und Ingenieuren.

Die diesjährige Konferenz stand unter der Schirmherrschaft des Bundesministers für Wirtschaft und Arbeit, Dr. Wolfgang Clement; die Eröffnungsrede mit Informationen zur Technologie-Roadmap der Branche wurde von Herrn Dr. Hermann Gerlinger, Präsident und CEO der Carl Zeiss SMT AG, Oberkochen, gehalten.

Das umfangreiche Programm enthielt 46 Vorträge von Fachleuten aus 14 verschiedenen Ländern, weitere Themen wurden in einer Posterausstellung dargestellt. Die gesamte Veranstaltung wurde von einer Fachausstellung mit mehr als 20 Exponaten begleitet. Die Konferenz wurde von einem attraktiven Begleitprogramm umrahmt.

Die hervorragende Teilnehmerzahl - mehr als 210 Personen aus 15 Ländern - beweist, dass die Konferenz auch nach ihrem Wechsel von München nach Dresden als etabliert angesehen werden kann.

CD-ROMS mit den Tagungsinhalten können ab März d.J. bei der Geschäftsstelle bezogen werden.