Im Mittelpunkt der 21. Europäischen Masken und Lithographie Konferenz (EMLC)  vom 1. - 3.2.2005 in Dresden stehen die Masken- und Lithographietechnologien für integrierte Schaltkreise und Mikrokomponenten. Diese 21. Konferenz will erneut Plattform und Forum sein für Wissenschaftler, Forscher, Ingenieure und Technologen von Unternehmen und Forschungsinstituten, die an führender Stelle der Halbleiter- und Photomaskentechnologien arbeiten. Schirmherr der diesjährigen Konferenz ist der Bundesminister für Wirtschaft und Arbeit, Dr. Wolfgang Clement. Die Eröffnungsrede wird der Präsident und CEO der Carl Zeiss SMT AG, Oberkochen, Herr Dr. Hermann Gerlinger halten. Als einer der Keynote Speaker ist Dr. Christopher J. Progler, von Photronics Inc. USA eingeladen.

Das Programm enthält 46 angenommene Beiträge aus 14 Ländern, knapp 1/3 davon kommen aus den USA und Südostasien. Autoren von 75 verschiedenen Unternehmen und Forschungseinrichtungen sind an der Ausarbeitung dieser Beiträge beteiligt. Dies zeigt eine weltweite intensive Zusammenarbeit zwischen vielen Unternehmen und einzelnen Personen.
Die Konferenz beinhaltet Beträge aus folgenden wichtigen Bereichen der Masken- und Lithographietechnologien:

· Immersionslithographie
· Advanced Reticle Manufacturing
· Data Processing
· Simulation
· Metrologie
· Maskenlose Lithographie
· EUV Masken und Lithographie Techniken

Parallel zu der Konferenz findet eine technische Ausstellung beteiligter Unternehmen statt.