20.01.2016 Expertengruppe 72 0

Nassprozesse

copyright: Fraunhofer ENAS

Die Fachgruppe Nassprozesse


adressiert das Arbeitsgebiet der nasschemischen Prozessierung von Siliziumwafern und anderen, halbleiterkompatiblen Substraten. Themenschwerpunkte sind zunächst klassische Prozesse wie Substratreinigung und Nassätzprozesse.

Spezielle Anwendungen, wie z.B. die Hydrophylisierung von Waferoberflächen für das Waferbonden ergänzen den Arbeitsinhalt. Nicht zuletzt ordnen sich auch Prozesse der galvanischen Schichtabscheidung in dieses Gebiet ein.

Die Fachgruppe Nassprozesse versteht sich als Plattform für den Austausch von Informationen und Erfahrungen, insbesondere zwischen den Anwendern aus der produzierenden Industrie, den Mitarbeitern aus Forschung und Entwicklung und den Anbietern technologischer Ausrüstungen und Materialien.

Speziell dazu finden zweimal im Jahr sogenannte Europäische Nutzertreffen statt. Der jeweilige Veranstaltungsort wandert dabei durch ganz Europa. Aufgrund der inhaltlichen Verwandtschaft mit den Prozessen der Oberflächenbearbeitung werden diese Nutzertreffen gemeinsam mit der Fachgruppe Planarisierung als zweitägige Veranstaltung durchgeführt.

Die Fachgruppe Nassprozesse wurde 2013 von Dr. Gerfried Zwicker (FG Planarisierung) und
Dr. Knut Gottfried ins Leben gerufen und wird seitdem von Dr. Knut Gottfried und
Frau B.Sc. Romy Junghans betreut.

Kontakt:

Dr. Knut Gottfried
Fraunhofer Institut für Elektronische Nanosysteme (ENAS)
Technologie Campus 3
09126 Chemnitz
Tel.: 0371 45001 299
Fax: 0371 45001 399
E-mail: knut.gottfried@enas.fraunhofer.de

B.Sc. Romy Junghans
Fraunhofer Institut für Elektronische Nanosysteme (ENAS)
Technologie Campus 3
09126 Chemnitz
Tel.: 0371 45001 499
Fax: 0371 45001 599
E-mail: romy.junghans@enas.fraunhofer.de

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